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捷佳伟创首批半导体清洗设备成功交付

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发表于 2021-07-23 12:57:57 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
       捷佳伟创首批半导体清洗设备成功交付点评:

       1、公司昨晚微信公众号发布,2021年7月21日成功交付3套槽式湿法清洗设备批量订单至重要客户量产线。

       2、半导体设备业务进展迅速。公司于2020年9月投资成立了创微微电子(常州)有限公司,专门从事集成电路湿法清洗工艺设备业务,主要包含槽式和单片式晶圆湿法清洗设备。槽式清洗设备在全球约8-10亿美元市场空间,主要面向8寸及12寸成熟工艺。公司正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备,涵盖了集成电路8寸及以下近70%湿法工艺步骤。12寸单片式清洗、和其他干法集成电路设备正在研发布局中。

       3、HJT中试线首片以下线,静待效率数据。公司HJT中试线异质结电池首片下线,试验线位于常州,制绒、非晶硅镀膜、TCO、丝网印刷等工序的主机及自动化全线贯通,设备均为公司自研,在PECVD环节包括板式和管式,在TCO环节包括PVD/PAR,公司将对多种技术路线同时验证,以满足不同客户的需求。中试线将补齐公司在PECVD环节的验证数据,目前HJT试验线正在效率爬升中,静待验证数据。此外,两种PECVD也均送至客户现场验证。

       4、Topocn方面PECVD验证进展顺利。公司在Topcon方面具有完整的产品布局,在隧穿氧化层上同时有LPCVD和管式PECVD设备,管式PECVD设备已在客户现场验证且取得较好效果。Topcon无论是改造还是新建,公司均有望受益。

       5、此前多种因素使得公司异质结特别是PECVD环节与友商相比进展滞后,试验线验证结果将补齐PECVD环节数据,并且公司在HJT、Topcon两条技术路线及其中的多种设备路线中布局全面,无论未来哪一种技术路线/设备路线胜出,公司均将受益。同时公司向集成电路设备拓展,并迅速取得了成功,未来有望在泛半导体设备领域多轮驱动成长。

       6、公司前天公布首片HJT电池片下线,昨天公布成功交付半导体湿法设备,在光伏新技术和半导体领域同时实现突破。机构认为公司在新技术上的研发和产业化能力被大大低估,预期未来2个月公司新技术进展进入密集落地期,在HIT、Topcon等多个跑道绽放光芒。预计公司2021-2022年归母净利润9.38、12.37亿元,对应PE 52、40倍,无论在光伏还是半导体设备中,估值均有较高性价比,除此次半导体的进展外,后续异HJT的效率数据将有望进一步打开公司估值空间,机构给与中期目标市值800亿元,尚有空间继续看好。



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