【盘中宝】支持集成电路产业链攻坚克难，这类材料90%依赖从日本、美国进口，这家...

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支持集成电路产业链攻坚克难，这类材料90%依赖从日本、美国进口，这家公司多款产品实现大批量稳定供货

财联社资讯获悉，国资委党委书记、主任张玉卓表示，国资委将进一步精准施策，在人才、资金等方面加大政策支持力度，完善配套措施，支持中央企业在集成电路产业链发展的完整性、先进性上攻坚克难、勇往直前，更好促进集成电路产业高质量发展。

一、光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠

集成电路制造工艺繁多复杂，其中光刻、刻蚀和薄膜沉积是半导体制造三大核心工艺，光刻的主要作用是将印制于掩膜板上的电路图复制到衬底晶圆上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。 光刻材料是指光刻工艺中用到的光刻胶（Photoresist，PR）、抗反射涂层（ARC）、旋涂碳（SOC）、旋涂玻璃（SOG）等，其中最为重要的就是光刻胶。光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠。 目前全球高端半导体光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断，国内半导体光刻胶需求90%依赖从日本、美国进口，日企全球市占率约80%，处于绝对领先地位。半导体光刻胶属于高技术壁垒材料，生产工艺复杂，纯度要求高，认证周期需要2-3年，因此短时间内新兴玩家难以进入。目前主流厂商包括日本的东京应化、JSR、富士、信越化学、住友化学，以及美国杜邦、欧洲AZEM和韩国东进世美肯等。

二、国内厂商具备一定发展优势 浙商证券分析指出，光刻胶作为半导体产业核心原材料，技术壁垒高，国内厂商具备一定发展优势，首先是国产晶圆厂商逆周期扩产新增大量光刻胶需求，本土替代空间广阔，客户替代意愿强。第二，国内光刻胶厂商具备本土化优势，与客户联系更紧密、反馈沟通更便捷。

三、相关上市公司：彤程新材、容大感光、八亿时空

彤程新材实现了普通I线光刻胶，高分辨I线光刻胶，化学放大型I线光刻胶，普通KrF光刻胶，高分辨KrF光刻胶，KrF负性光刻胶，厚膜KrF光刻胶等产品大批量稳定供货（8-12英寸产线）。 容大感光半导体用光刻胶已对三安光电、扬杰科技、聚灿光电、华微电子等客户实现销售。 八亿时空表示， 目前公司光刻胶树脂开发进展良好，已有小批量出货，KrF光刻胶开发进展良好。